三星和LG將用ALD技術產柔性屏 延長使用壽命
來源：骨軟筋酥網
時間：2025-11-22 18:27:58
三星顯示器公司與LG Display準備在柔性OLED薄膜封裝過程中采用ALD(原子層沉積)技術，星和兩家公司已經與合作伙伴合作，將用D技在內部采購并驗證ALD設備。術產上海徐匯外圍工作室（外圍）vx《192-1819-1410》提供外圍女上門服務快速選照片快速安排不收定金面到付款30分鐘可到達如果采用ALD技術，柔性就可以更好保護有機材料，屏延減少氧、長使水的用壽影響，從而提高柔性OLED面板的星和壽命和性能。
據產業人士透露，將用D技三星顯示器和LG Display正準備在柔性OLED生產流程中采用ALD技術。術產上海徐匯外圍工作室（外圍）vx《192-1819-1410》提供外圍女上門服務快速選照片快速安排不收定金面到付款30分鐘可到達Jusung Engineering、柔性WONIK IPS、屏延AP System和TES擁有ALD技術和設備。長使LG Display已經完成對ALD的用壽研究，準備將它用于柔性OLED生產;三星顯示器也在加速部署ALD技術。星和
兩家公司完成了ALD技術的研發，它們正在考慮實際引入ALD的可能性，因為它們正在向柔性OLED生產設施投資。企業的研發已經完成，開始進入商用階段。
OLED是有機材料，它存在缺陷，比如，OLED對水和氧的防護比較弱。為了保護OLED，制造商會在OLED之上鋪上許多層的薄膜，減少水和氧的侵蝕。具體鋪多少層?不同的制造商有不同的標準，一般而言，制造企業會用一種名叫“Vitex”的方法在OLED之上鋪蓋有機薄膜和無機薄膜，交疊進行，各自3-5層。。
在無機薄膜封裝過程中，企業一般使用PECVD(等離子體增強化學汽相沉積)、濺射、ALD技術;如果是有機薄膜沉淀，使用的是Kateeva的噴墨打印技術。為了生成無機薄膜，三星和LG采用PECVD技術。
為什么兩家企業現在才考慮用ALD技術替代PECVD?因為壽命和性能對于柔性OLED來說越來越重要。另外，柔性OLED屏幕的生產力下降，需求增長也是一個問題。
ALD技術是CVD(化學蒸汽沉積)技術的一種，它交替噴射原材料(包括ALD金屬和反應氣體)從而形成原子薄膜層。MLD技術(分子層沉積)可以形成有機材料分子層，兩者結合就可以形成多層屏障，保護OLED，使之免受水和氧的侵蝕，即使在低溫下也可以形成。
在屏幕生產過程中引進ALD技術有一些優勢，例如，它可以減少雜質，形成厚度相同的薄膜。ALD技術可以涂上高質量薄膜層，保護效果明顯增強。如果無機薄膜的厚度不同(只有幾納米的差別)，層層疊加，總薄膜厚度、滲水率就會受到影響。除此之外，與現有的CVD方法相比，ALD技術還可以采用各種不同的薄膜，這也是它的一個優勢。
半導體產業追求精細工藝，ALD成為它們追捧的對象。不過顯示屏產業一直對ALD保持猶豫態度，因為它的成本比PECVD高，大面積使用也存在一定的問題，沉積速度不夠快。最近一段時間問題已經部分解決，正因如此ALD才會真正投入使用。
一名產業代表稱：“雖然ALD和PECVD不可同日而語，但是ALD的沉積速度比PECVD慢了大約10倍。因為沉積速度慢，生產效率也很低，大面積應用有困難，這些都是主要的障礙，之所以真正引進ALD技術，主是是考慮到它可以形成更薄的高質量薄膜。”
據產業人士透露，將用D技三星顯示器和LG Display正準備在柔性OLED生產流程中采用ALD技術。術產上海徐匯外圍工作室（外圍）vx《192-1819-1410》提供外圍女上門服務快速選照片快速安排不收定金面到付款30分鐘可到達Jusung Engineering、柔性WONIK IPS、屏延AP System和TES擁有ALD技術和設備。長使LG Display已經完成對ALD的用壽研究，準備將它用于柔性OLED生產;三星顯示器也在加速部署ALD技術。星和
兩家公司完成了ALD技術的研發，它們正在考慮實際引入ALD的可能性，因為它們正在向柔性OLED生產設施投資。企業的研發已經完成，開始進入商用階段。
OLED是有機材料，它存在缺陷，比如，OLED對水和氧的防護比較弱。為了保護OLED，制造商會在OLED之上鋪上許多層的薄膜，減少水和氧的侵蝕。具體鋪多少層?不同的制造商有不同的標準，一般而言，制造企業會用一種名叫“Vitex”的方法在OLED之上鋪蓋有機薄膜和無機薄膜，交疊進行，各自3-5層。。
在無機薄膜封裝過程中，企業一般使用PECVD(等離子體增強化學汽相沉積)、濺射、ALD技術;如果是有機薄膜沉淀，使用的是Kateeva的噴墨打印技術。為了生成無機薄膜，三星和LG采用PECVD技術。
為什么兩家企業現在才考慮用ALD技術替代PECVD?因為壽命和性能對于柔性OLED來說越來越重要。另外，柔性OLED屏幕的生產力下降，需求增長也是一個問題。
ALD技術是CVD(化學蒸汽沉積)技術的一種，它交替噴射原材料(包括ALD金屬和反應氣體)從而形成原子薄膜層。MLD技術(分子層沉積)可以形成有機材料分子層，兩者結合就可以形成多層屏障，保護OLED，使之免受水和氧的侵蝕，即使在低溫下也可以形成。
在屏幕生產過程中引進ALD技術有一些優勢，例如，它可以減少雜質，形成厚度相同的薄膜。ALD技術可以涂上高質量薄膜層，保護效果明顯增強。如果無機薄膜的厚度不同(只有幾納米的差別)，層層疊加，總薄膜厚度、滲水率就會受到影響。除此之外，與現有的CVD方法相比，ALD技術還可以采用各種不同的薄膜，這也是它的一個優勢。
半導體產業追求精細工藝，ALD成為它們追捧的對象。不過顯示屏產業一直對ALD保持猶豫態度，因為它的成本比PECVD高，大面積使用也存在一定的問題，沉積速度不夠快。最近一段時間問題已經部分解決，正因如此ALD才會真正投入使用。
一名產業代表稱：“雖然ALD和PECVD不可同日而語，但是ALD的沉積速度比PECVD慢了大約10倍。因為沉積速度慢，生產效率也很低，大面積應用有困難，這些都是主要的障礙，之所以真正引進ALD技術，主是是考慮到它可以形成更薄的高質量薄膜。”
